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作家许地山简介,许地山简介资料 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家(jiā)知识产权局(jú)局(jú)长申长雨(yǔ)在(zài)新闻发布会上表示,将统(tǒng)筹(chóu)推(tuī)进各(gè)类知识产权(quán)法律(lǜ)法规和制度(dù)规则的制修订工作(zuò)。其中,修(xiū)改(gǎi)完善集(jí)成(chéng)电路布图(tú)设计保护条例,适应大规模(mó)集成电路发展需要,助力(lì)芯片产业做大做强,服务数字经济更(gèng)好发展(zhǎn)。

  加强大(dà)数据(jù)、人工智能(néng)、基因技(jì)术等新(xīn)领域新(xīn)业(yè)态知识产权规则研(yán)究,助力相关领域创新(xīn)发展。同时,积(jī)极参与知识(shí)产权国(guó)际规(guī)则(zé)制(zhì)定(dìng),更好对接(j作家许地山简介,许地山简介资料iē)高标准国际经贸规则(zé),助力高(gāo)水平(píng)对外开(kāi)放。

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