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一面亲上边一面膜下边的,一面亲上边一面膜下边打扑克 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要 一面亲上边一面膜下边的,一面亲上边一面膜下边打扑克>

  金融界4月24日消息(xī),国家(jiā)知识产权局(jú)局(jú)长申长雨在新闻发(fā)布会上表示,将统筹推(tuī)进(jìn)各类知识(shí)产(chǎn)权法律法(fǎ)规和制度(dù)规则的制修(xiū)订(dìng)工作。其中(zhōng),修改完善集成电路布图设计保护条(tiáo)例(lì),适应大规(guī)模(mó)集成(chéng)电(diàn)路发展需要(yào),助力芯片产业做(zuò)大做强,服(fú)务数字经济更好(hǎo)发展。

  加(jiā)强大数(shù)据、人工智能(néng)、基因技术等(děng)新(xīn)领(lǐng)域新业(yè)态知识产权规则(zé)研究(jiū),助(zhù)力相关(guān)领域创新发展。同时,积极参与(yǔ)知识产权国际规则制定(dìng),更好对接高(gāo)标准(zhǔn)国际经贸规则(zé),助力高水平对外开放。

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