金(jīn)融界4月24日消息，国家知识产权局局(jú)长申长雨在新闻发布会上表示(shì)，将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订(dìng)工作。其中，修改完善集成电路布图设(shè)计保护条(tiáo)例(lì)，适应大规模(mó)集成电路发展需要，助力芯片产风采风彩两个词的区别是什么，风采风彩两个词的区别在哪业做大做强，服务数字经(jīng)济更(gèng)好(hǎo)发展。

　　加(jiā)强(qiáng)大数据、人(rén)工智能、基因技术等新领域新业态知识产权规则(zé)研究，助力相关领(lǐng)域(yù)创新(xīn)发展(zhǎn)。同时(shí)，积极(jí)参与知识(shí)产(chǎn)权国际规则制定，更好(hǎo)对接高(gāo)标准国际经贸规则(zé)，助(zhù)力高水(shuǐ)平对外开放。

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