大家好，来看一则突(tū)发消(xiāo)息。

　　美光公司在华销售的产品未通过网(wǎng)络安(ān)全审查

　　据网信办消息(xī)，日(rì)前(qián)，网(wǎng)络(luò)安全审查办公室依(yī)法对美(měi)光公司(sī)在华销售(shòu)产品(pǐn)进行了网(wǎng)络安全审查。

　　审查发(fā)现，美(měi)光公司产品存在(zài)较严重网络安全(quán中国到美国几小时飞机，中国到美国多长时间飞机)问题隐患，对(duì)我国关键信息基础设施供应链造(zào)成(chéng)重(zhòng)大安全风险(xiǎn)，影响我国国家安(ān)全。为此(cǐ)，网络安全审查办(bàn)公室依法作出(chū)不予通过网络安全审(shěn)查的(de)结论(lùn)。按照(zhào)《网络安全(quán)法(fǎ)》等法律(lǜ)法规，我国(guó)内关键(jiàn)信息基础设施(shī)的运(yùn)营(yíng)者(zhě)应停止采购(gòu)美光公司产品。

　　此次(cì)对(duì)美光公司产品(pǐn)进行(xíng)网络安全审查，目的(de)是防范产品网络(luò)安(ān)全问题危害国家(jiā)关键信息(xī)基础设施安全，是维护国家安(ān)全的(de)必要(yào)措施。中国坚(jiān)定推进(jìn)高水平对外开放，只要(yào)遵守中国法律法(fǎ)规要求，欢迎各国(guó)企(qǐ)业、各类平(píng)台(tái)产品服(fú)务(wù)进入中(zhōng)国市场。

　　3月(yuè)31日(rì)，中国网信网(wǎng)发文称，为(wèi)保障关键信息基础设施(shī)供应链安全，防范产品问题隐患造成网络安(ān)全风险，维护国家安全(quán)，依据(jù)《中华人民共(gòng)和国国家(jiā)安全法》《中(zhōng)华人民共和(hé)国网络安全法》，网络安全审查办公室(shì)按(àn)照《网(wǎng)络(luò)安(ān)全审查(chá)办法》，对美光(guāng)公司(sī)（Micron）在华销售的(de)产(chǎn)品实施网络安全审(shěn)查。

　　美(měi)光是美国(guó)的存储(chǔ)芯片行业龙头，也(yě)是(shì)全(quán)球(qiú)存储芯片(piàn)巨头之一，2022年收入来自(zì)中国市场收入从此前高峰57％降至2022年(nián)约11％。根据市场(chǎng)咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三(sān)星电(diàn)子、 铠(kǎi)侠(xiá)、西部(bù)数据、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash （闪存）市(shì)场份额约为(wèi) 96.76％，三星电子(zi)、 SK 海(hǎi)力士、美(měi)光(guāng)在(zài)全球 DRAM （内存(cún)）市(shì)场份额约为 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司中，江(jiāng)波龙、佰维存储等公司披露过美光等国际存(cún)储厂(chǎng)商为公司供应商。

　　美光在江(jiāng)波龙采购占比已经显著下降，至少已(yǐ)经不是主要大供应商。

　　公告显(xiǎn)示(shì)， 2021年美光(guāng)位列江波龙第一大存储晶圆(yuán)供应商，采购约31亿元(yuán)，占比33.52％；2022年，江波龙(lóng)第一大(dà)、第二大和第(dì)三大供(gōng)应(yīng)商采(cǎi)购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目(mù)前(qián)江波(bō)龙已经(jīng)在存储产(chǎn)业链上下游(yóu)建立国内(nèi)外广(guǎng)泛合作(zuò)。2022年(nián)年报显示(shì)，江波龙与三星(xīng)、美光、西(xī)部(bù)数据等主要存(cún)储晶圆原厂签署了长期合约，确保存储晶圆供(gōng)应的稳定性，巩固公司在下游(yóu)市场的(de)供(gōng)应(yīng)优势，公司也(yě)与国内(nèi)国产(chǎn)存储晶圆(yuán)原厂武汉长江存储、合肥长鑫保持良好的(de)合作(zuò)。

　　有券商此(cǐ)前就(jiù)分析，如果美光在中国区销(xiāo)售受到(dào)限制，或将导致下(xià)游客户转而(ér)采购国外三(sān)星、 SK海(hǎi)力(lì)士，国内长江存(cún)储、长鑫存(cún)储(chǔ)等竞对产品

　　分析称，长存(cún)、长(zhǎng)鑫的(de)上游设备厂(chǎng)或从(cóng)中受益。存储(chǔ)器(qì)的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另(lìng)外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代，2 维到3维的结构转变使(shǐ)刻蚀和薄膜成为最关键、最(zuì)大量的加工设备。3D NAND每(měi)层均需要(yào)经过薄膜沉积工艺(yì)步骤，同(tóng)时刻(kè)蚀目前前沿要刻到 60：1的(de)深孔，未来可能会更深的孔(kǒng)或者(zhě)沟槽，催生(shēng)更多设备需求(qiú)。据东京电(diàn)子披露，薄膜沉积设备及刻蚀(shí)占3D NAND产(chǎn)线资本开支合计为75％。自长江存储被加入美国限制名单，设备(bèi)国产化进程中国到美国几小时飞机，中国到美国多长时间飞机4px;'>中国到美国几小时飞机，中国到美国多长时间飞机(chéng)加速，看好拓荆科技（薄(báo)膜沉积）等(děng)相关公司份额(é)提(tí)升，以及存(cún)储业务占(zhàn)比(bǐ)较高的华海(hǎi)清科（CMP）、盛美上(shàng)海（清洗）等收入增长。

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